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Für die '''bildgebenden Methoden''' eines konventionellen REMs werden meist SE und BSE genutzt. | Für die '''bildgebenden Methoden''' eines konventionellen REMs werden meist SE und BSE genutzt. | ||
Die '''Sekundärelektronen (SE)''' liefern die beste Auflösung, da das Auffangen der Sekundärelektronen im Detektor vom Neigungswinkel abhängt und dadurch Topographiekontraste entstehen. Aufgrund der geringen Energie der Sekundärelektronen(< 50 eV) können diese die Probe nur aus sehr geringen Tiefen verlassen, wodurch die höhere Auflösung der SE im Gegensatz zu den BSE zustande kommt. Bei den '''rückgestreuten Elektronen (BSE)''' ist die Ausbeute abhängig von der Kernladungszahl der Probe. Hohe bis mittlere Kernladungszahlen erhöhen die Ausbeute und damit die Rückstreuung. </div> | Die '''Sekundärelektronen (SE)''' liefern die beste Auflösung, da das Auffangen der Sekundärelektronen im Detektor vom Neigungswinkel abhängt und dadurch Topographiekontraste entstehen. Aufgrund der geringen Energie der Sekundärelektronen(< 50 eV) können diese die Probe nur aus sehr geringen Tiefen verlassen, wodurch die höhere Auflösung der SE im Gegensatz zu den BSE zustande kommt. Bei den '''rückgestreuten Elektronen (BSE)''' ist die Ausbeute abhängig von der Kernladungszahl der Probe. Hohe bis mittlere Kernladungszahlen erhöhen die Ausbeute und damit die Rückstreuung. </div> | ||
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</ul> | </ul> | ||
===Probenaufbereitung === | ===Probenaufbereitung=== | ||
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{| class="wikitable" | {| class="wikitable" style="margin-right: auto; margin-left: auto; text-align:center;" | ||
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! scope="col"| Aufbereitungsart | ! scope="col" |Aufbereitungsart | ||
! scope="col"| Zeitlicher Aufwand inkl. Messprozedur | ! scope="col" |Zeitlicher Aufwand inkl. Messprozedur | ||
! scope="col"| Eigenleistung/Dienstleistung | ! scope="col" |Eigenleistung/Dienstleistung | ||
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|Dünnschliffpräparation | |Dünnschliffpräparation | ||
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|beides | |beides | ||
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| Bedampfen mit Gold oder Kohlenstoff | |Bedampfen mit Gold oder Kohlenstoff | ||
| 3 Stunden | |3 Stunden | ||
| beides | |beides | ||
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| Chemisch-mechanische Politur für EBSD Messungen | |Chemisch-mechanische Politur für EBSD Messungen | ||
| mehrere Tage | |mehrere Tage | ||
| beides | |beides | ||
|} | |} | ||
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===Lehrveranstaltungen=== | ===Lehrveranstaltungen=== | ||
High Resolution Microscopy (Master Geology, Geomaterialien und Geochemie) | [[High Resolution Microscopic Methods|High Resolution Microscopy]] (Master Geology, Geomaterialien und Geochemie) | ||
===Literatur=== | ===Literatur=== | ||
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== AutorINNEN == | ==AutorINNEN== | ||
{{Autor|1= T. Mond}} | {{Autor|1= T. Mond}} |