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*unebene Oberflächen | *unebene Oberflächen | ||
== | ==Vor- und Nachteile== | ||
+ Bildgebendes Verfahren mit bis zu atomarer Auflösung<br> | |||
+ schnellere Messung bei glatten Oberflächen<br> | |||
+ Empfindliche Messungen im sub-nm Bereich<br> | |||
+ Prozesse können in Echtzeit untersucht werden<br><br> | |||
- Nur lokale Prozesse können untersucht werden, keine Information über die Homogenität der Probe<br> | |||
- Handhabung der AFM Sonde benötigt Routine<br> | |||
- Hochauflösung ist durch die Größe der Spitze bestimmt (~10 nm)<br> | |||
- Hohe Empfindlichkeit der Sonden (Spitze kann abstumpfen, zerstört oder beschmutzt werden)<br> | |||
- Langsamer als ein [[Rasterelektronenmikroskopie (REM)|Rasterelektronenmikroskop]]<br> | |||
- Hohe Sensitivität gegenüber Lärm- und Schwingungen im Labor oder Umgebung<br> | |||
- Thermische bedingte Drift zwischen Probe und Sonde möglich | |||
==Einsatzbereiche== | ==Einsatzbereiche== | ||
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AFM mit Dreipunktlagerung von JPK Instruments | AFM mit Dreipunktlagerung von JPK Instruments | ||
NanoWizard II NanoScience AFM | NanoWizard II NanoScience AFM | ||
<!--==Referenzen==--> | |||
==Lehrveranstaltungen== | ==Lehrveranstaltungen== | ||
[[Rastersondenmikroskopie (Vorlesung und Übung)]] | [[Rastersondenmikroskopie (Vorlesung und Übung)]] | ||
==AutorInnen== | ==AutorInnen== |