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<li>korrekte chemische Behandlung beim Polieren der Probe | <li>korrekte chemische Behandlung beim Polieren der Probe | ||
<li>die Probe muss '''vakuumstabil''' sein</li> | <li>die Probe muss '''vakuumstabil''' sein</li> | ||
==Was kann gemessen werden?== | ==Was kann gemessen werden?== | ||
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<li>Kombiniertes EDX Mapping | <li>Kombiniertes EDX Mapping | ||
<li>Korngrenzeninformationen über Orientierungsunterschiede benachbarter Körner und Beziehungen (Zwillinge) | <li>Korngrenzeninformationen über Orientierungsunterschiede benachbarter Körner und Beziehungen (Zwillinge) | ||
==Fehlerquellen== | ==Fehlerquellen== | ||
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<li>Gitterparameter und Elemente des zu untersuchenden Materials müssen genau bekannt sein | <li>Gitterparameter und Elemente des zu untersuchenden Materials müssen genau bekannt sein | ||
<li>Bei geringen Abweichungen von Gitterzellen entstehen Pseudosymmetrien die nicht beachtet werden dürfen | <li>Bei geringen Abweichungen von Gitterzellen entstehen Pseudosymmetrien die nicht beachtet werden dürfen | ||
==Vor- und Nachteile== | ==Vor- und Nachteile== | ||
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==Einsatzbereiche== | ==Einsatzbereiche== | ||
Die Methode ist zuverlässig und liefert schnelle Ergebnisse. Anwendungsgebiete befinden sich in der Mineralogie und den Materialwissenschaften. | Die Methode ist zuverlässig und liefert schnelle Ergebnisse. Anwendungsgebiete befinden sich in der Mineralogie und den Materialwissenschaften. | ||
* komplexe Werkstoffuntersuchungen | * komplexe Werkstoffuntersuchungen | ||
* Untersuchung von Vollmaterial mit einer räumlichen Auflösung von bis zu 50 nm. | * Untersuchung von Vollmaterial mit einer räumlichen Auflösung von bis zu 50 nm. |