RegistrierterBenutzer
5.551
Bearbeitungen
Zeile 50: | Zeile 50: | ||
<li>korrekte chemische Behandlung beim Polieren der Probe | <li>korrekte chemische Behandlung beim Polieren der Probe | ||
<li>die Probe muss '''vakuumstabil''' sein</li> | <li>die Probe muss '''vakuumstabil''' sein</li> | ||
<ul/> | |||
==Was kann gemessen werden?== | ==Was kann gemessen werden?== | ||
Zeile 58: | Zeile 59: | ||
<li>Kombiniertes EDX Mapping | <li>Kombiniertes EDX Mapping | ||
<li>Korngrenzeninformationen über Orientierungsunterschiede benachbarter Körner und Beziehungen (Zwillinge) | <li>Korngrenzeninformationen über Orientierungsunterschiede benachbarter Körner und Beziehungen (Zwillinge) | ||
<ul/> | |||
==Fehlerquellen== | ==Fehlerquellen== | ||
Zeile 67: | Zeile 69: | ||
<li>Gitterparameter und Elemente des zu untersuchenden Materials müssen genau bekannt sein | <li>Gitterparameter und Elemente des zu untersuchenden Materials müssen genau bekannt sein | ||
<li>Bei geringen Abweichungen von Gitterzellen entstehen Pseudosymmetrien die nicht beachtet werden dürfen | <li>Bei geringen Abweichungen von Gitterzellen entstehen Pseudosymmetrien die nicht beachtet werden dürfen | ||
<ul/> | |||
==Vor- und Nachteile== | ==Vor- und Nachteile== | ||
+ hohe Auflösung | + hohe Auflösung | ||
+ Probe muss nicht elektrisch leitfähig sein | + Probe muss nicht elektrisch leitfähig sein<br> | ||
- Informationsverlust durch Projektion der Kristallverschiebung auf den Phosphorschirm | - Informationsverlust durch Projektion der Kristallverschiebung auf den Phosphorschirm | ||
- Verzerrungserscheinungen im Bild | - Verzerrungserscheinungen im Bild | ||
- Präparation einer planaren Oberfläche ohne plastische Verformung sehr aufwendig und schwer | - Präparation einer planaren Oberfläche ohne plastische Verformung sehr aufwendig und schwer | ||