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Bearbeitungen
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==Spezielle Anforderungen an die Probennahme und –aufbereitung, Reinigung== | ==Spezielle Anforderungen an die Probennahme und –aufbereitung, Reinigung== | ||
<li>repräsentative Probenahme</li> | <li>repräsentative Probenahme</li> | ||
<li>Vermeidung von Kontamination</li> | <li>Vermeidung von Kontamination</li> | ||
<li>korrekte chemische Behandlung beim Polieren der Probe | <li>korrekte chemische Behandlung beim Polieren der Probe | ||
<li>die Probe muss '''vakuumstabil''' sein</li> | <li>die Probe muss '''vakuumstabil''' sein</li> | ||
==Was kann gemessen werden?== | ==Was kann gemessen werden?== | ||
<li>Korn-/Texturanalysen | <li>Korn-/Texturanalysen | ||
<li>Laterale Auflösung bis 50nm-10nm (abhängig vom Material und REM Auflösung, Probenqualität) | <li>Laterale Auflösung bis 50nm-10nm (abhängig vom Material und REM Auflösung, Probenqualität) | ||
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<li>Kombiniertes EDX Mapping | <li>Kombiniertes EDX Mapping | ||
<li>Korngrenzeninformationen über Orientierungsunterschiede benachbarter Körner und Beziehungen (Zwillinge) | <li>Korngrenzeninformationen über Orientierungsunterschiede benachbarter Körner und Beziehungen (Zwillinge) | ||
==Fehlerquellen== | ==Fehlerquellen== | ||
<li>Schlechte System-Kalibrierung (führt zu Phantomstress) | <li>Schlechte System-Kalibrierung (führt zu Phantomstress) | ||
<li>Relative Positionierung zwischen EBSD-Kamera und Probe muss genauestens bekannt sein | <li>Relative Positionierung zwischen EBSD-Kamera und Probe muss genauestens bekannt sein | ||
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<li>Gitterparameter und Elemente des zu untersuchenden Materials müssen genau bekannt sein | <li>Gitterparameter und Elemente des zu untersuchenden Materials müssen genau bekannt sein | ||
<li>Bei geringen Abweichungen von Gitterzellen entstehen Pseudosymmetrien die nicht beachtet werden dürfen | <li>Bei geringen Abweichungen von Gitterzellen entstehen Pseudosymmetrien die nicht beachtet werden dürfen | ||
==Vor- und Nachteile== | ==Vor- und Nachteile== |