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| Farbraum = analytik | | Farbraum = analytik | ||
<!--Methode--> | <!--Methode--> | ||
|Englische Bezeichnung | | Englische Bezeichnung = Electron backscatter diffraction (EBSD) | ||
|Materialien | | Materialien = Kristallografische Methode zur Analyse geometrischer Eigenschaften von Kristallen (Gitterebenen) < Abbildung von Oberflächentopographie und Materialkontrasten < Analytik an polierten Flächen: Bestimmung der vollständigen 3D Orientierung von kristallinen Materialien | ||
| Messung =Korn-/Texturanalysen und Orientierungsanalysen aller kristallinen Festkörper. | |||
Größe beschränkt auf Dimensionen der Probenkammer | |||
|Messung | | Auflösung =laterale Auflösung von 50 nm bis 10 nm | ||
| Kosten (f. Dienstleistung) =Nutzung wird über den Betreuer geregelt | |||
|Auflösung | |||
|Kosten (f. Dienstleistung) | |||
<!--Aufbereitung--> | <!--Aufbereitung--> | ||
|Aufbereitungsarten | | Aufbereitungsarten =i.d.R. jegliche Proben messbar (feste Materialien, Dünnschliffe),Probe muss trocken sein | ||
|Aufbereitungsarten (an LMU)? =polierte, nicht-abgedeckte Dünnschliffe | | Aufbereitungsarten (an LMU)?=polierte, nicht-abgedeckte Dünnschliffe | ||
Polieren: chemisch-mechanisch, elektrochemisch, chemisches Ätzen mit HNO3=polierte, nicht-abgedeckte Dünnschliffe | Polieren: chemisch-mechanisch, elektrochemisch, chemisches Ätzen mit HNO3=polierte, nicht-abgedeckte Dünnschliffe | ||
|Erforderliche Probenmenge | | Erforderliche Probenmenge =geringe Probenmenge im mg-Bereich ausreichend. Die maximale Größe wird durch das Volumen der Probenkammer bestimmt und das Korn muss kleiner als die Anregungsbirne des Probenstrahls sein. | ||
|Zeitl. Aufwand Probenaufbereitung (inkl. Reinigung) | | Zeitl. Aufwand Probenaufbereitung (inkl. Reinigung) = Ggf. Dünnschliffpräparation über mehrere Tage und Politur (mehrere Stunden) | ||
<!--Messprozedur--> | <!--Messprozedur--> | ||
|Kalibration | | Kalibration = {{Ja}} | ||
|Administrator | | Administrator = {{Ja}} | ||
|Messung = Dienstleistung | | Messung = Dienstleistung = {{Ja}} | ||
|Messung selbständig möglich (nach Einweisung) = {{Ja}} | | Messung selbständig möglich(nach Einweisung) = {{Ja}} | ||
|Dauer der Messung pro Probe = abhängig von Zielsetzung und Anwendung | | Dauer der Messung pro Probe = abhängig von Zielsetzung und Anwendung = Abhängig von Zielsetzung und Anwendung. | ||
| Ausgabeformat =Bild, Spektrum, Euler Winkel, Polfiguren, Maps, Kikuchi Diagramme… | |||
}} | |||
EBBSD ist sowohl eine Analysemethode als auch ein Zusatztool im Rasterelektronenmikroskop, wobei die geometrischen Eigenschaften der Kristalle (Gitterebenen) auf einem Phosphorschirm als Bänderspektrum projiziert werden. | |||
{{Autor|1= T. Mond}} | {{Autor|1= T. Mond}} | ||