Rasterelektronenmikroskopie (REM)
Rasterelektronenmikroskopie (REM) | |
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Methode | |
Englische Bezeichnung | Scanning electron microscope (SEM) |
Was kann gemessen werden? | Abhängig von den Arbeitsbedingungen im nm bis µm Bereich (Feldemissionskathode)
Analytik an polierten Flächen:
Kathodoluminezenz (CL) |
Welche Materialien können gemessen werden? | In Abhängigkeit zur Fragestellung können alle festen Materialien (organisch und anorganisch) gemessen werden. Die Größe ist lediglich auf die Dimension der Probenkammer beschränkt. |
Zeitl. Aufwand insgesamt | i.d.R. mehrere Wochen (Erstellung eines Gesteinspulvers, Präparation der Glas- und Schmelztablette, Analyse); Express in Ausnahmefällen bei Geräte- und Personalverfügbarkeit innerhalb von 3 Tagen |
Kosten (f. Dienstleistung) | 30-60€/Stunde
Nutzung wird über den Betreuer geregelt |
Aufbereitung | |
Generell mögliche Aufbereitungsarten? | i.d.R. jegliche Proben messbar (feste Materialien, Dünnschliffe, Anschliffe) Probe muss trocken und elektrisch leitfähig sein (Beschichtung/Bedampfung z.B. mit Gold oder Kohlenstoff) |
Aufbereitungsarten (an LMU)? | Für EDS/EBSD/CL Analytik: polierte, nicht-abgedeckte Dünn- oder Anschliffe Für EBSD: zusätzliche chemisch-mechanische Politur Sputter/coating Gerät für Leitfähigkeit |
Erforderliche Probenmenge | Gesteinsprobe muss minimal so groß sein, um einen Dünnschliff herzustellen. Die maximale Größe wird durch das Volumen der Probenkammer bestimmt. Die minimale Größe liegt bei > 20 µm. Bei Zusatzgeräten wie EBSD, CL, EDS reicht eine geringere Probenmenge im mg Bereich. Das Korn muss kleiner als die Anregungsbirne des Probenstrahls sein. |
Zeitl. Aufwand Probenaufbereitung (inkl. Reinigung) | Ggf. Dünnschliffpräparation (mehrere Tage) anschließende zwei stündige Bedampfung mit Kohlenstoff. Ggf. feste Probe reinigen und ebenfalls ca. 2 Stunden mit Kohlenstoff bedampfen. |
Messprozedur | |
Kalibration notwendig | Nein |
Administrator notwendig | Ja |
Messung = Dienstleistung | Ja |
Messung selbständig möglich (nach Einweisung) | Ja, bedingt |
Dauer der Messung pro Probe | Abhängig von Zielsetzung und Anwendung. |
Ausgabeformat | Bild, Spektrum, Euler Winkel, Polfiguren, Maps… |
Die Rasterelektronenmikroskopie (REM) ist eine physikalische Methode zur Bestimmung von Oberflächen oder Elementzusammensetzungen.
Grundprinzip
Zuerst wird ein primärer Elektronenstrahl generiert, der Richtung Probe beschleunigt wird um diese abzurastern. Die Wechselwirkung zwischen den Elektronen des Primärstrahls und den Atomen der Probe erzeugt eine Vielfalt an Signalen, die in der untenstehenden Abbildung gekennzeichnet sind. Die Streuprozesse werden in eine inelastische und eine elastische Streuung innerhalb von festen Körpern unterteilt. Durch eine zickzack Bewegung der Elekronen in der Probe werden die Rückstreuelektronen entweder abgespalten oder verharren innerhalb der Probe. Die am meisten genutzten Signale sind die Sekundärelektronen (SE), die Rückstreuelektronen (Back Scattered Electrons BSE) und die Röntgenstrahlung (EDS, eng. EDX).
Bei der elastischen Streuung erhalten die abgelenkten Elektronen keinen Energieverlust, sondern werden nur aus ihrer Bahn gelenkt. Diese Eigenschaft ist v.a. bei den BSE von enormer Bedeutung. Bei der inelastischen Streuung werden Elektronen abgelenkt und ein Teil ihrer kinetischen Energie an die Atome der Probe übertragen. Dabei verlassen die SE über mehrere Wechselwirkungen die Außenschale der Probe und werden in einem charakteristischen Winkel abgespalten. Der Prozess kann detektiert werden und bildhaft im REM dargestellt werden.
Für die bildgebenden Methoden eines konventionellen REMs werden meist SE und BSE genutzt.
Die Sekundärelektronen (SE) liefern die beste Auflösung, da das Auffangen der Sekundärelektronen im Detektor vom Neigungswinkel abhängt und dadurch Topographiekontraste entstehen. Aufgrund der geringen Energie der Sekundärelektronen(< 50 eV) können diese die Probe nur aus sehr geringen Tiefen verlassen, wodurch die höhere Auflösung der SE im Gegensatz zu den BSE zustande kommt. Bei den rückgestreuten Elektronen (BSE) ist die Ausbeute abhängig von der Kernladungszahl der Probe. Hohe bis mittlere Kernladungszahlen erhöhen die Ausbeute und damit die Rückstreuung.Bei der energiedispersiven Röntgenanalyse (EDS/ eng. EDX) werden Röntgenstrahlen nach der Bestrahlung detektiert und man erhält die Elementzusammensetzung der Probe. Je nach Ausstattung des Elektronenmikroskops kann neben der Bildgebung auch eine analytische Auswertung gemacht werden.
- EBSD (Electron Backscatter Diffraction)
- EDS (Energiedispersive Röntgenspektroskopie)
- KL (Kathodolumineszenz)
Spezielle Anforderungen an die Probennahme und –aufbereitung, Reinigung
- repräsentative Probenahme
- Vermeidung von Kontamination
- die Probe muss vakuumstabil sein
- die Probe muss leitfähig sein und daher ggf. mittels Kohlenstoff oder Gold bedampft werden; Achtung: bei längerer Lagerung kann die Bedampfungsschicht Schaden nehmen und die Probe muss neuerlich bedampft werden
- Vorschriftsmäßige Entfernung der Bedampfungsschichten
Probenaufbereitung
Aufbereitungsart | Zeitlicher Aufwand inkl. Messprozedur | Eigenleistung/Dienstleistung |
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Dünnschliffpräparation | 14 Tage | beides |
Bedampfen mit Gold oder Kohlenstoff | 3 Stunden | beides |
Chemisch-mechanische Politur für EBSD Messungen | mehrere Tage | beides |
Fehlerquellen
Bei der Aufbereitung
- Kontamination der Probe
- Auswahl einer nicht repräsentativen Probe
- fehlende oder falsche Bedampfung (Kohlenstoff- oder Goldbedampfung); ACHTUNG: bei langer Lagerung oder hoher Beanspruchung beim Transport kann die Bedampfungsschicht Schaden nehmen
- Chromatische Fehler durch das Bestrahlen mit dem Elektronenstrahl (Kippung in einem Neigungswinkel ungleich 90°) - Dünnschliff sollte parallel sein und keinen Keil darstellen, deshalb muss die Probe optimal geschliffen und poliert sein (Check im Auflichtmikroskop)
- inkorrektes Einlegen der Probe in das REM
- Fehler durch den Kleber; ACHTUNG: wenn der Elektronenstrahl zu lange auf die Probe gelenkt wird verdampft der Kleber und verdreckt anschließend die Säule
- Verwendung von zu viel Leitsilber - ggf. Cu- oder C-Band verwenden
Bei der chemischen Analytik
- Bei EDS Messungen können keine volatilhaltigen Minerale gemessen werden, da die Analyse auf 100% normiert wird und der in der Analyse fehlenden Volatile die Analyse verfälschen würden
- Die Nachweisempfindlichkeit liegt bei 0,1 % (ab Z > 10 (Na), für leichte Elemente schlechter)
- Die energiedispersive bring es mit sich, dass die Linien bzw. Peaks bestimmter Elemente im Spektrum überlagern wie z.B. Barium und Titan oder Arsen und Blei. Diese können nur mit wellenlängendispersiven Methoden (WDS), z.B. Elektronenstrahlmikrosonde (EMS, eng. EMPA) analysiert werden
Bei der Probenaufbewahrung/Transport
- Beschädigung der Bedampfung (Verwendung eines Präparatekastens für Dünnschliffe)
- keine Fingerabdrücke und Staub auf der Probe
Auswertung
Vor- und Nachteile
Das REM ist eine sinnvolle Grundlage für qualitativ hochwertige Aussagen über Proben.
+ Durch Bilder kann ein Überblick nach der Mikroskopie geschaffen werden, da große Ausschnitte für die Aufnahme möglich sind
+ Man kann mehrere Methoden kombinieren (EBSD, EDS, KL) - quantitative Ergebnisse
+ Kann als vorbereitende Methode für die chemische Analytik von Mineralen verwendet werden (EMPA)
+ Mineralidentifizierung mittels EDS + Elementidentifikation in einem Material (wird als Vorbereitung zur Kalibration der Mikrosonde benötigt)
- Die chemische Analytik ist nur semiqantitativ (EMPA).
Einsatzbereiche
Das REM stellt eine Art Zwischenstufe für Mikroskopie und Mineralchemie Forschung dar und schafft einen Überblick über Details.
In den Geowissenschaften wird das REM verwendet für:- Paläobiologie: Morphologie von Fossilien
- Petrographie: Dünnschliffe
Lehrveranstaltungen
M.Sc. Geology:
P 9.0.8, WP 5.0.4 High Resolution Microscopy
M.Sc. Geomaterialien und Geochemie:
P 3.3 High Resolution Microscopy
Verzeichnis von Normen und Richtlinien
- ISO 17853 2011-03 Wear of implant materials - Polymer and metal wear particles - lsolation, characterisation and quantification.
- DIN EN ISO 2808 2007-05 Beschichtungsstoffe - Bestimmung der Schichtdicke - (Elektronenmikroskopie am Querschnitt)
- DIN EN ISO 9220 L995-01 Metallische Überzüge - Messung der Schichtdicke Verfahren mit Rasterelektronenmikroskop.
- AA04 2015-10 Abbildung von Material- und Zellkultur-Oberflächen mit Rasterelektronenmikroskopie (REM)
- DIN EN rSO 10993-18 2009-08 Biologische Beurteilung von Medizinprodukten - Teil 18: Chemische Charakterisierung von Werkstoffen (nur Material-Analyse mit REM/EDX, keine Medizinprodukte)
- DrN rso 22309 2015-11 Mikrobereichsanalyse - Quantitative Analyse mittels energiedispersiver Spektroskopie (EDS) für Elemente mit der Ordnungszahl 11 (Na) oder höher
- ASTM E1508-12a 20L2 Standard Guide for Quantitative Analysis by Energy-Dispersive Spectroscopy
- ASTM F2847-10 2010 Standard Practice for Reporting and Assessment of Residues on Single Use lmplants (nur REM/EDX)
Literatur
- Jimenez J. & Tomm J.W. (2016): Spectroscopic Analysis of Optoelectronic Semiconductors. – 317 p.; Switzerland (Springer).
- Biermann H. & Krüger L. (2015): Moderne Methoden der Werkstoffprüfung. – S. 440; Weinheim (Wiley-VCH).
- Eggert F. (2005): Standardfreie Elektronenstrahl-Mikroanalyse – mit dem EDX im Rasterelektronenmikroskop. Ein Handbuch für die Praxis.- S. 187; Norderstedt.
- Reimer L. & Pfefferkorn G. (1973): Rasterelektronenmikroskopie. – Berlin-Heidelberg (Springer).
Referenzen
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Autor:innen
- Dieser Artikel wurde geschrieben und gegengelesen von:
- Theresa Mond
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